碳化物靶材

       碳化物靶材是一类重要的溅射靶材，以其卓越的物理、化学性能和广泛的应用领域而受到关注。主要由金属或类金属与碳形成的化合物构成，如碳化钛（TiC）、碳化锆（ZrC）、碳化铪（HfC）、碳化硅（SiC）和碳化钨（WC）等。这些材料通常具有超高的硬度、优异的耐磨性、出色的耐腐蚀性、耐高温稳定性以及良好的导电性和导热性，使其成为高性能薄膜沉积、功能涂层和电子元件制造的理想选择。

       在半导体与电子产业中，碳化物靶材被广泛用于硬质涂层、绝缘层、导电层的制备，特别是在微电子器件、功率电子器件和先进存储技术中发挥重要作用。例如，碳化硅（SiC）靶材凭借其优异的高温稳定性和宽禁带特性，被用于制造高功率、高频电子器件。此外，碳化钨（WC）和碳化钛（TiC）因其超强耐磨性，在精密工具、刀具、模具表面镀膜中广受欢迎，能大幅提高使用寿命和耐磨性能。

       在航空航天和新能源领域，碳化物靶材同样至关重要。例如，碳化铪（HfC）和碳化锆（ZrC）因其极高的熔点（超过3500°C），被广泛用于超高温环境的涂层材料，如火箭喷嘴、超音速飞行器耐热防护层等。此外，碳化硅（SiC）在太阳能电池、LED、光伏产业和电动汽车领域也有重要应用，有助于提高器件的能效和耐用性。

       我们提供高纯度、高密度的碳化物靶材，并可根据客户需求定制不同规格、尺寸、纯度和制造工艺，以满足在电子、工业制造、航空航天、新能源及科研等多个领域的多样化需求。

碳化物靶材产品列表：