硼化物靶材

       硼化物靶材是一类高性能功能材料，广泛应用于半导体制造、光学镀膜、耐磨涂层、航空航天、电子器件以及新能源等领域。常见的硼化物靶材包括二硼化钛（TiB₂）、二硼化锆（ZrB₂）、二硼化铪（HfB₂）、二硼化镁（MgB₂）等，它们具有优异的理化特性，如高熔点、高硬度、耐腐蚀性和良好的导电、导热性能，使其在极端环境下仍能保持稳定的性能。

       在半导体和微电子行业，硼化物靶材用于制备功能性薄膜，例如低电阻率的金属硼化物薄膜，可作为电极材料或阻挡层，提高芯片性能并延长器件寿命。在航空航天和军事领域，硼化物材料因其极高的硬度和耐磨损性，被应用于涂层技术，增强零部件的耐用性和抗氧化能力。此外，硼化物靶材还在新能源领域发挥重要作用，如二硼化镁（MgB₂）因其超导特性，在高温超导材料研究中备受关注。

       硼化物靶材主要采用物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）工艺进行薄膜沉积，其高纯度和高密度确保了高效的溅射性能，能够满足先进制造和精密工业的严格要求。随着科技的进步和新材料研究的深入，硼化物靶材的应用范围正在不断拓展，为多个高科技产业提供强有力的材料支持。

硼化物靶材产品列表：