金属箔片

       金属箔片是用于PVD镀膜工艺中的关键材料，广泛应用于半导体、光学镀膜、装饰镀膜、电子元件制造等行业。这些金属箔片具有优异的物理和化学稳定性，能够在真空环境下均匀蒸发或溅射，从而形成高质量的镀膜层。常见的金属箔片材料包括钛（Ti）、铝（Al）、钼（Mo）、钽（Ta）、铬（Cr）、铜（Cu）、镍（Ni）、金（Au）、银（Ag）、钯（Pd）等。
       金属箔片具备高纯度、高均匀性和优异的热稳定性，能够满足高精度镀膜需求。其主要特点包括高纯度（可达99.9%-99.999%），有效减少镀膜过程中的杂质，提高沉积层的质量和稳定性。此外，金属箔片具有优异的导电性和导热性，能够快速加热并均匀蒸发，提高镀膜效率。在高温真空环境下，金属箔片表现出卓越的耐热性，不易氧化或变形。均匀的厚度控制保证镀膜层的均一性，提高光学、电子元件的性能，确保最终产品的高质量标准。
       金属箔片广泛应用于多个高科技行业，满足不同领域的精密镀膜需求。在半导体与微电子领域，它用于芯片制造、晶圆镀膜、MEMS器件的导电层，提高电子元件的耐用性和导电性。在光学镀膜行业，金属箔片用于制造高反射膜、增透膜和滤光片，优化光学元件的透射和反射性能。装饰镀膜应用涵盖钟表、汽车零部件、手机外壳等，赋予产品耐磨性和抗腐蚀能力。除此之外，在能源与航天领域，金属箔片被用于太阳能电池、航天器件的镀膜，提升材料的稳定性、耐久性和环境适应性。
       金属箔片可根据客户需求提供不同厚度、尺寸和纯度的定制服务，以适应各种PVD镀膜工艺。供应商通常采用高精度轧制和真空熔炼技术，确保产品质量稳定，同时提供各种规格的金属箔片，如超薄型（<10μm）和标准厚度（10-100μm）等。此外，部分金属箔片还可进行特殊表面处理，以优化镀膜效果，提高沉积效率。

金属箔片产品列表：