氧化物靶材

       氧化物靶材是一类性能优异的溅射镀膜材料，广泛应用于半导体、光电子、光学镀膜、显示技术、新能源及传感器等高科技领域。其主要成分是金属氧化物，常见种类包括氧化铝（Al₂O₃）、氧化锌（ZnO）、氧化铟锡（ITO）、氧化镓（Ga₂O₃）、氧化钛（TiO₂）等。这些材料因其卓越的光学、电学及化学稳定性，在薄膜制备和微电子器件制造中具有不可替代的作用。

       氧化物靶材通常采用高纯度原材料，通过先进的陶瓷烧结或等离子喷涂工艺制备，以确保其高密度、低孔隙率和均匀的微观结构，从而提升溅射镀膜过程中的稳定性和膜层质量。特别是在磁控溅射、电子束蒸发、脉冲激光沉积（PLD）等物理气相沉积（PVD）技术中，氧化物靶材可实现高效的薄膜沉积，形成具有良好导电性、透明性或高折射率的功能薄膜，广泛应用于触控屏、太阳能电池、智能玻璃、光学滤波器、高速电子器件等领域。

       根据不同的应用需求，氧化物靶材可提供多种规格、形状及纯度选择，包括圆形、矩形、环形等不同尺寸，纯度可达99%-99.999%。同时，还可根据客户需求定制特定配方，如掺杂或复合氧化物靶材，以优化薄膜性能。高品质的氧化物靶材能够确保溅射过程中稳定的沉积速率，提高膜层均匀性，并提升器件的整体性能和使用寿命。

氧化物靶材产品列表：